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应用领域和指标要求参考
用途 用水指标 参考标准
单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
美国半导体工业用纯水指标
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水
电阻率10 ~17 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
蓄电池、锂电池、锌锰电池生产
电阻率5 ~10 MΩ.CM 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水 电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
主要工艺流程和出水指标：
※预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
※ 预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）
详细工艺需根据原水设计情况进行设计
纯水设备的主要特点
▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定；
▼在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全；
▼全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全；
▼切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，全方位满足需求。
▼运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。
