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连续磁控溅射镀膜设备,压克力真空镀膜机

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更新: 2025-09-18
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公司基本资料信息
 
 
设备特点:

1、设备采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以先进的控制系统。

2、生产过程全部自动,连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃,温度分区控制可调。

3、真空室体材料采用SUS304,真空室内壁进行抛光处理,外壁采用抛光后喷涂处理。

4、真空室之间采用独立门阀隔开,我们设计的是插板阀,可以有效隔断,稳定工艺气体。目前国内只有我们公司具有这项技术设计生产插板阀,它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好,更耐用。

5、传动采用磁导向,保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动,运行速度可调节。

6、电气控制系统:触摸屏与PLC自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。

7、主要技术参数:

极限真空7×10-4PA

平均生产周期:80秒/架

基片架尺寸:850×1500(mm)(可以根据要求定做)

膜层均匀性:±2%

8、膜层稳定性:达到国际标准。


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