半导体硅片光刻清洗机设备工作台

半导体硅片光刻清洗机设备工作台

1. 本设备是光刻清洗台，适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺。

2.整机由机台、操作台面、清洗槽体、温度控制系统，排风、机台照明、电气控制系统等组成。机身包板为德国PP板。瓷白色，整洁美观。

3.共3个槽体 水浴加热槽2个，排水槽1个

4. 本半导体硅片光刻清洗机设备的左、右前方各配置PP材料的水枪、气qiang各2把

5.PLC控制器

6.声光提示、报警功能

7. 设备照明：20W封闭日光灯

8. DIW氮气(N2) 管路 、洁净空气管路、自来水管、 药液排放管、排气管路、 排水管布局简洁合理。