2.3 CemeCon涂层公司
CemeCon是一家专门从事涂层技术开发及涂层服务的公司，创建于1986年，1988年开发制造了第一台CC800 PVD专用涂层设备，并在德国、美国、丹麦及中国设立有涂层加工服务中心。公司目前生产的PVD涂层设备主要有三种，分别为SX、ML、XL，到目前为止设备销售约90台左右。
CemeCon公司采用的是磁控溅射离子镀技术，该项技术兼有空心阴极离子镀和阴极电弧离子镀的优点，涂层组织致密，同时也选择了大面积矩形靶材技术，从而进一步保证了涂层的均匀性；该技术可涂镀多种单层、多层或复合薄膜，如TiN、TiC、TiCN、ZrN、CrN、WC/C、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CBN、AlO等。CemeCon公司所开发的H.I.S磁控溅射技术，成功地解决了磁控溅射离子镀技术在实际应用中许多关键性技术难题，诸如离化率、离子能量的提高等，并在刀具涂层方面达到了工业化生产水平。从我们了解的情况分析，该涂层技术具有薄膜组织致密、涂层均匀、产品一致性好的特点，尤其适合于可转位刀片及中小尺寸刀具的涂层加工。
CemeCon公司最新的工艺技术为H.I.P技术，基于双极脉冲原理，在此基础上开发了SUPERTIN涂层，一种致密立方晶格超级氮化物，该涂层在中等切削条件下加工不锈钢或有色金属，与传统的氮化钛相比具有明显的优势；而TINALOX则是利用该技术开发的一种高速加工用硬质薄膜，其除具有较高的表面硬度外，还具有良好的抗高温性能，使用温度也可达到1000℃，可用于铸铁、不锈钢及高温合金的切削加工。也正是由于H.I.P技术的开发成功使得AlOX涂层成为可能，这种非导体的薄膜材料具有优异的高温性能，如何通过PVD的方法实现氧化铝镀膜，一直是业界所关心的问题，而H.I.P技术为这一问题的解决提供了可能的方案。该公司新近开发的Al2O3薄膜涂层，涂层温度低于450℃，与以往的概念不同，其HIP的AlOx涂层建立在HIS的TiAlN薄膜基础上，并在铸铁和高性能合金材料试验中取得了满意结果，使得PVD AlO涂层成为现实，也为物理涂层技术向半精加工或粗加工方面发展奠定了基础，同时也确立了PVD今后的一个发展方向。
此外，该公司提出了润滑薄膜涂层的概念，在薄膜TiAlBN结构中，通过硼含量的变化，适应切削条件的变化，在加工过程中产生所谓“insitu”现象，即通过硼向表面的扩散，形成BN、B2N3，从而得到有利于切削加工的润滑膜层。
此外，CemeCon另一颇具特色的技术是CVD金刚石涂层技术。2000年建立CCDia生产线，使金刚石涂层技术达到工业化生产水平，其技术含量高，可以批量生产金刚石透明薄膜。
2.4 PVT涂层公司
PVT涂层公司也是上世纪80年代中期崛起的一家专业刀具涂层企业，可进行各种刀具、模具涂层加工。PVT公司以涂层设备销售为主，现在主要开发的涂层设备有4种：S2、M2、L3、L4，近几年销售设备约20台左右。
该公司也是采用大面积矩形阴极电弧蒸发技术，与Platit涂层技术相近，主要进行TiN、TiCN、AlTiN、ZrN、CrN涂层。该公司在等离子刻蚀、清洗工艺开发方面极具特色，并且注重薄膜与基体结合结构的研究，涂层结合强度较为理想；此外公司也十分看重生产效率的提高，在大幅度提高抽气速率的同时，由通过强制冷方式缩短了冷却周期，从而提高了生产效率；通过附加PLC润滑膜技术进一步降低了薄膜表面的摩擦系数。
PVT的涂层技术和设备在中国、美国、欧洲、日本等世界范围内获得了多项专利技术，其专利技术包括了新型电弧蒸发源、电弧等离子导电装置、基体处理技术和装置等。其动态电磁控制蒸发器对电弧进行优化控制，使靶材各个部分能得到同等强度的电弧，均匀蒸发和离子化，靶材离子化率高达85%以上，很好地解决了颗粒或“液滴”问题，涂层微结构非常细密，涂层表面光亮。对基体独特的刻蚀清洗技术使得涂层被沉积到工件之前得到完全彻底的清洗，使得涂层与基体的结合力达到理想的指标。采用新的刻蚀技术后，薄膜与基体的分界不再明显，薄膜已与基体溶为一体。
此外，在不额外增加成本、不额外增加涂层生产时间的情况下，PVD还可以进行独特的PLC（polymer like carbon——类高分子聚合物）冶金润滑膜层沉积，进一步降低涂层表面的摩擦系数。例如在AlTiN涂层上再加上PLC涂层之后，针对不同的用途，可提高涂层刀具的使用寿命。
2.5 Metaplas Ionon公司
该公司成立于1984年，1987年在德国Bevgisch Gladbach建立独立的涂层中心，主要以MAXIT耐磨涂层为主。1991年被Balche Durr AG公司购买，成立了Babcock Borsig AG公司，1992年开始生产制造设备，并扩大了涂层服务，1997年兼并了Klocknev Ionon GmbH公司，业务范围扩展到等离子渗氮领域，即IONIT R耐磨保护，1997年获得IONIT OX R专利，1999年注册了METALEUROP Coating Technology GmbH，并扩展到装饰涂层领域。2001年该公司被瑞士Sulzer公司收购，2002年扩大了Bergisch Gladbach的IONIT和IONIT OX的生产规模，成为最大的工业等离子表面处理制造商。2003年兼并了美国前DB薄膜公司，开始从事MAXIT、IONIT、IONITOX生产服务。
Metaplas Ionon的MAXIT PVD涂层标准系统有6种，规格从MZR303、MZR323、MZR333、MZR343、MZR373到MZR393，其硬涂层蒸发器为圆形阴极弧靶，最多可达24个；软涂层为矩形蒸发器，以溅射方式进行涂镀，工件采用外部加热方式。可进行TiN、TiCN、AlTiN、ZrN、CrN硬涂层及W-C∶H软涂层。
Metaplas公司尽管沿用了小面积阴极弧靶技术，但其AEGD（Arc Enhanced Glow Discharge）专利技术的应用，使得这项传统技术在工艺上有了极大突破。以氮铝钛涂层为例，其所开发的AlTiN-saturn涂层与传统的涂层有着明显的区别。这种薄膜组织细密，呈非柱状晶结构，表面几乎无“液滴”现象出现，Ra值可小于0.15μm，其使用温度高于900℃，适合于高速、干式切削加工。此外在对涂层刀具表面润滑性要求高的应用场合，如钻削、螺纹加工等，可在同一设备上利用磁控溅射技术，涂覆一层W-C∶H膜，以提高其使用性能。
Metaplas公司另一显著特点是涂层设备的大型化，其24靶涂层设备可涂镀长度达4m的拉刀或类似零部件，并以达到工业化应用水平。
Metaplas主要以涂层加工服务为主，涉及刀具、模具及耐磨零件等，包括滚刀、旋转类刀具、合金刀片、拉刀、丝杆及压辊、塑料推料蜗杆等，目前也开始从事PVD设备销售，最近3年已销售设备11台套。
