伯东公司代理等离子刻蚀机 RIE/ICP

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

等离子刻蚀机 RIE/ICP 产品特色：腔室温度控制范围：室温~60℃、适用于最大8”样品及更小样品、本底真空<9×10-5 Torr、可选配Loadlock、刻蚀样品陡直度：最好可达89°

应用领域：适用于各种金属、Si、SiO2、SiN、GaAs、GaN等II-VI族和III-V族材料的刻蚀