X荧光无损膜厚分析仪

X荧光无损膜厚分析仪运用X射线荧光的工作原理是，X 射线管产生初级射线照射在受检物质时，会激发物质放射X－射线萤光辐射，特定的元素有特定的辐射信号，接收器便会记录这些能量光谱。不需要先对样品进行处理便能测量，样品可直接放入测量室进行测量。不需要复杂、昂贵的仪器来抽真空，便能在正常的环境下测量从元素Z＝13铝到Z＝92（铀），固定、浆状及液体的样本也可以测量，即使是极小不规则形状的测量面积也可快速、免接触的测量。

X荧光无损膜厚分析仪主要应用方面：

由于可测量的元素范围拓阔至从铝至铀，X射线的应用范围从工业应用伸展到科学应用。它可应用于治金学、地质学、鉴证学或自然科学等，在工业方面，广泛用于五金电镀、电子半导体、PCB线路、首饰珠宝、卫浴、汽配的成份分析和镀层测量方面。

期待您的来电，金霖电子 吴小姐 手机：13603036715 TEL：0755-29371651 FAX：29371653 公司网址：www.kinglinhk.com 地址：宝安中心区宏发中心大厦