ITO靶
ITO靶的主要生产工艺是:将三氧化二铟和三氧化二锡按一定比例混合均匀---冷等静压成坯---热等静压制成靶---线切割---客户需要尺寸
1、产品:氧化铟锡靶材相对密度为:RD99;纯度≥99.99%
2、化学成分
In2O3 : SnO2 = 90: 10(m/m),偏差为±0.5%(m/m)。
In2O3 : SnO2 = 97: 3(m/m),偏差为±0.5%(m/m)。
3 物理性能
3.1 相对密度:相对密度≥99%;密度均匀性偏差≤±0.2%;
3.2 电阻率:≤2.0Ω·mm2/m;
3.3 平均线膨胀系数:(2~9)×10-6 ℃-1 ;
3.4 失氧率:≤5%
4 物理规格
氧化铟锡靶材呈片状或其它形状,最大尺寸为∮250*300,其规格尺寸及其偏差由供需双方商定。