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光清洗灯

随着光电子产业的迅猛发展，清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。目前国外广泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗，它一方面能避免由于使用有机溶剂造成的污染，同时能够将清洗过程缩短。

二、光清洗的特点： 1、是一种干洗方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行燥。

2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。

3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。

4、保证产品的高可靠性和高成品率。

5、产品表面清洗处理的均匀度一致。

6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。

三、光清洗的技术应用范围：

主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。