价格:未填


特点：磁控溅射靶为元柱型旋转靶，设置在真空室体上，蒸发电极设置在工作小车上，

两者装卸、维护灵活方便。工件架采用齿轮传动公、自转结构。

电气控制系统采用PLC程序可实现磁控溅射和蒸发镀膜过程的全自动或手动控制，操作简单、灵活、可靠。