价格:未填
结构特点

1、采用脉冲技术，使沉积粒子细化，膜的性能提高，且具有沉积速度快、离子能力大等特点；

2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源，适合范围广；

3、新型靶源结构，有效提高离化率和膜层均匀性；

4、所镀膜层具有硬度高，膜层与基底结合强度好，耐酸、碱、盐的能力强的特点