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正压工作台又Q恿鞴ぷ魈ā饬髂Ｊ榇怪恿鳌⑻峁┚植康Q空gQ度、依使用h境om等Class100，V泛被使用於半w工I，光W工I、高精密工I等工I性用途
◆在一般工S、k公室h境下使用，也能符合需求的om等要求。
◆配置累ro使用rg，精_掌握更QHEPArg。
◆嚎肆CNC加工号饪祝保持垂直饬髌胶獠划a品y流。
◆整台不P生aCNC加工u造。
◆配置能T5日光艟摺
*p量化:F鼋Mb快速有效率
\方便,p少\M用
*性能越:Mb後就是一台完整的om
操作台
*So容易:]有繁s的系y,日常保B
So 非常容易
*r格惠:^鹘yCLEAN BENCH可以
s大量成本
*清Q度可_CLEAA 100
*型式区分:水平式CLEAN BENCH
垂直式CLEAN BENCH
*适用行业:电子.光学.光电.面板.测试
生物◆A、附有活虞及{整_、定位、移印安b方便。
◆B、裼貌讳P台面，配合嚎肆Π醢澹工作^易清So。
◆C、裼每烧{L量LC系y，o段旋~{整L量大小，保C工作^L速始K於理想B。
◆D、配淅r，使用rg。
◆E、_放式面，操作方便。
◆F、号饪滓作I需求可x裨谧烂婊让妗
◆G、x用不P方管、算^不有承d及力形l生。
.化学.组织培养
