ITO靶

ITO靶的主要生产工艺是：将三氧化二铟和三氧化二锡按一定比例混合均匀---冷等静压成坯---热等静压制成靶---线切割---客户需要尺寸

1、产品：氧化铟锡靶材相对密度为：RD99；纯度≥99.99%

2、化学成分

In2O3  : SnO2  = 90: 10（m/m），偏差为±0.5%（m/m）。

In2O3  : SnO2  = 97: 3（m/m），偏差为±0.5%（m/m）。

3   物理性能

3．1   相对密度：相对密度≥99％；密度均匀性偏差≤±0.2％；

3.2  电阻率：≤2.0Ω·mm2/m；

3.3  平均线膨胀系数：（2～9）×10-6 ℃-1  ；

3.4  失氧率：≤5％

4 物理规格

氧化铟锡靶材呈片状或其它形状，最大尺寸为∮250*300，其规格尺寸及其偏差由供需双方商定。