伯东公司代理等离子增强化学汽相沉积系统PECVD

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

化学汽相沉积系统 PECVD 产品特色：最大 8”样品或更小样品；适用于 SiN，SiO2等高质量薄膜沉积；平行板电容式等离子发生器；高效率的真空系统；全自动--界面友好的工艺控制；射频功率可调，最大600W，13.56MHz；标配 6路工艺气体，可用于CF4，N2O，N2，NH3，O2，SiH4，CH4 and C2H6等气体；IBM 工业级电脑，80G硬盘，17”液晶显示器，实时显示工艺状态。

PECVD设备广泛应用在半导体行业(MEMS)、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜、太阳能电池薄膜等领域。