伯东公司代理脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE产品特色：全自动控制、极限真空<5E-10Torr、钼制或PBN衬底加热台、最高温度1100℃，氧环境下最高温度500℃、选配RHEED、样品尺寸最大3”或3个2”、 衬底旋转 ± 180°、预留AFM/STM接口

应用领域：适用于半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷等薄膜的沉积。