伯东公司代理磁控溅射系统 Sputter

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

磁控溅射系统 Sputter产品特色：样品台可旋转0-30 RPM、极限真空5×10-7 Torr、磁控管数量最多4个、最大磁控管尺寸6”、 磁控管与样品间具体可调

应用领域：适用于硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金属等材料表面，镀制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各种金属、非金属，单层、多层膜